特許

J-GLOBAL ID：200903060885736066

パターン形成用3層積層被膜及びパターン形成方法

発明者： 小嶋 大輔 ,  今井 玄児 ,  木暮 英雄
出願人/特許権者： 関西ペイント株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-126367
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321785
出願日： 1999年05月06日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 パターン形成方法を提供する。【解決手段】 上層から順次、感エネルギー線被膜層(A)、フィルター層(B)及び感エネルギー線絶縁性被膜形成用樹脂層(C)を積層してなり、該被膜層(A)の上層表面から照射したエネルギー線をフィルター層(B)で吸収及び/又は反射することにより下層の感エネルギー線絶縁性被膜形成用樹脂層(C)のパターン形成に悪影響を及ぼさないようにエネルギー線を調製した3層積層被膜を有することを特徴とするパターン形成用3層積層被膜。

請求項（抜粋）：

上層から順次、感エネルギー線被膜層(A)、フィルター層(B)及び感エネルギー線絶縁性被膜形成用樹脂層(C)を積層してなり、該被膜層(A)の上層表面から照射したエネルギー線をフィルター層(B)で吸収及び/又は反射することにより下層の感エネルギー線絶縁性被膜形成用樹脂層(C)のパターン形成に悪影響を及ぼさないようにエネルギー線を調製した3層積層被膜を有することを特徴とするパターン形成用3層積層被膜。

IPC (4件)：

G03F 7/26 511 ,  G03F 7/11 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/06

FI (5件)：

G03F 7/26 511 ,  G03F 7/11 ,  H05K 3/00 G ,  H05K 3/06 E ,  H05K 3/06 H

Fターム (52件)：

2H025AA03 ,  2H025AA20 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC13 ,  2H025BC31 ,  2H025BE01 ,  2H025CA00 ,  2H025CC08 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025DA01 ,  2H025DA13 ,  2H025DA14 ,  2H025FA17 ,  2H025FA28 ,  2H025FA29 ,  2H025FA47 ,  2H025FA50 ,  2H096AA26 ,  2H096AA30 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096BA09 ,  2H096CA20 ,  2H096EA02 ,  2H096EA12 ,  2H096GA01 ,  2H096HA30 ,  2H096KA02 ,  2H096KA03 ,  2H096KA04 ,  2H096KA05 ,  2H096KA06 ,  2H096KA08 ,  2H096KA15 ,  2H096KA25 ,  2H096LA02 ,  5E339AB02 ,  5E339CC01 ,  5E339CC10 ,  5E339CD01 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD02 ,  5E339DD04 ,  5E339DD05 ,  5E339EE05