特許
J-GLOBAL ID：200903060887591820
回転式基板表面処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-348023
公開番号（公開出願番号）：特開平7-185444
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：
【要約】【目的】 ノズルの移動を合理的に制御して表面処理時間を短縮する。【構成】 基板を基板保持手段上に搬入し、その基板に表面処理液を供給するとともに基板を回転して表面処理を行うときに、ノズルから表面処理液を吐出して基板保持手段により基板を回転した後、次の基板を基板保持手段に保持させるまでの間において、ノズルを吐出位置から待機位置まで一旦戻した後に、待機位置にあるノズルを少なくとも吐出位置の上方まで移動させておくように構成する。
請求項（抜粋）：
基板を回転可能に保持する基板保持手段の周囲に、回転状態の基板からの表面処理液を受け止める飛散防止カバーを設け、その飛散防止カバーと前記基板保持手段とを、前記飛散防止カバーが前記基板の水平方向の横側方に位置する飛散防止状態と、前記飛散防止カバーが前記基板より下方に位置する退避状態とにわたって駆動手段により相対昇降可能に構成し、前記基板に表面処理液を供給するノズルを、前記基板の上方から外れた待機位置の上方と前記基板の上方の吐出位置の上方とにわたって水平方向に移動可能に設けるとともに、前記ノズルを水平方向に駆動移動するノズル水平駆動手段を設け、かつ、前記ノズルを前記待機位置および吐出位置それぞれとそれよりも上方の水平移動位置とにわたって昇降可能に設けるとともに、前記ノズルを駆動昇降するノズル昇降駆動手段を設けた回転式基板表面処理装置において、前記ノズルから表面処理液を吐出して前記基板保持手段により前記基板を回転した後、次の基板を前記基板保持手段に保持させるまでの間において、前記ノズルを吐出位置から待機位置まで一旦戻した後に、待機位置にあるノズルを少なくとも前記吐出位置の上方まで移動させておくように前記ノズル水平駆動手段および前記ノズル昇降駆動手段それぞれを作動するノズル移動制御手段を設けたことを特徴とする回転式基板表面処理装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, G03F 7/16 502
, G11B 7/26
, H01L 21/027
