特許
J-GLOBAL ID：200903060894011651
位相シフトフォトマスクブランクスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
米澤 明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-087366
公開番号（公開出願番号）：特開平6-301193
出願日： 1993年04月14日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：
【要約】【目的】 遮光層の浮きあがりや剥がれのない位相シフトフォトマスクブランクスを得る。【構成】 基板上にガラス組成物を塗布し、焼成することによって位相シフト層を形成後に、紫外線照射、オゾン処理の少なくともいずれか一方の方法で処理をする工程と、遮光層の形成の前に位相シフト層に吸着した水分を加熱によって除去する工程を設けた位相シフトフォトマスクブランクスの製造方法。【効果】 位相シフト層の濡れ性の改善、水分の除去を完全に行うことができ、遮光層の浮き上がり等を防止することができる。
請求項（抜粋）：
位相シフトフォトマスクブランクスの製造工程において、位相シフト層を形成後に、紫外線照射、オゾン処理の少なくともいずれか一方の方法で処理をする工程と、遮光層の形成の前に位相シフト層に吸着した水分を除去する工程を設けることを特徴とする位相シフトフォトマスクブランクスの製造方法。
IPC (2件)：
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