特許

J-GLOBAL ID：200903060901089246

溶剤、溶液型キノンジアジド系感光剤、フォトレジスト組成物および洗浄液

発明者： 白神 昇 ,  大橋 一俊 ,  美濃部 正夫 ,  大井 册雄
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-209739
公開番号（公開出願番号）：特開平7-064284
出願日： 1993年08月24日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【構成】(1)フッ素原子を含む、アルコール類、エステル類、エーテル類およびフェノール類から選ばれる少なくとも一種を主成分とすることを特徴とするキノンジアジド系化合物の溶剤。(2)(1)記載の溶剤にキノンジアジド系化合物を溶解してなる溶液型キノンジアジド系感光剤。(3)アルカリ可溶性樹脂、感光剤であるキノンジアジド系化合物および(1)記載の溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。(4)(1)記載の溶剤を主成分とする、キノンジアジド系化合物を含有するレジスト液通液ラインの洗浄液。【効果】(1)キノンジアジド系感光剤の良溶媒であり、感光剤を溶液化し得ることで感光剤の安定性・安全性を高め、工程の管理・制御を容易にする。(2)従来問題となっていたポジ型レジストの微小異物の析出を抑制し得る。(3)感光剤としてキノンジアジド系化合物を用いる各種装置や設備、例えばスピンコータライン等の洗浄液として用いることにより、迅速で信頼性の高い洗浄を行うことが可能となる。

請求項（抜粋）：

フッ素原子を含む、アルコール類、エステル類、エーテル類およびフェノール類から選ばれる少なくとも一種を主成分とすることを特徴とするキノンジアジド系化合物の溶剤。

IPC (5件)：

G03F 7/022 ,  C11D 7/28 ,  G03F 7/32 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特公平3-008532
  
• 特開平2-000804
  
• 特開昭64-050040
  
• 特開平3-106024