特許
J-GLOBAL ID：200903060902953890
集積回路レイアウトパターン生成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-003376
公開番号（公開出願番号）：特開平5-120375
出願日： 1992年01月10日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：
【要約】【目的】 与えられた集積回路の仕様を満足する実用的なレイアウトパターンを効率的に生成できる集積回路レイアウトパターン生成装置を提供することを目的とする。【構成】 集積回路の種々のレイアウトパターンデータを蓄積したレイアウトパターンライブラリ3と、入力された仕様を満足する集積回路を合成して該回路に関する回路情報を得る回路合成部5と、この回路情報とレイアウトパターンライブラリ3からのレイアウトパターンデータを照合し、最適と思われるレイアウトパターンデータを選択するレイアウトパターン選択部6と、選択されたレイアウトパターンデータにおける素子サイズと素子および配線の位置を変更して、回路合成部5で得られた回路情報に合致したレイアウトパターンデータを生成するパターン変更部7とを有する集積回路レイアウトパターン生成装置。
請求項（抜粋）：
入力された仕様を満足する集積回路のレイアウトパターンを生成する装置において、集積回路の種々のレイアウトパターンデータを蓄積するレイアウトパターンライブラリと、前記入力された仕様を満足する集積回路を合成して該集積回路の接続および回路パラメータに関する回路情報を生成する回路合成部と、この回路合成部で得られた回路情報と前記レイアウトパターンライブラリ内のレイアウトパターンデータを照合し、面積または性能に関して最適と思われるレイアウトパターンデータを前記レイアウトパターンライブラリ内のレイアウトパターンデータから選択するレイアウトパターン選択部と、この選択部で選択されたレイアウトパターンデータにおける素子サイズと素子および配線の位置を変更して、前記回路合成部で得られた回路情報に合致したレイアウトパターンデータを生成するパターン変更部とを具備することを特徴とする集積回路レイアウトパターン生成装置。
IPC (2件)：
G06F 15/60 370
, H01L 21/82
