特許
J-GLOBAL ID：200903060909789425
縦型拡散・CVD装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-316064
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151346
出願日： 1992年10月30日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：
【要約】【目的】反応炉を有する縦型拡散・CVD装置に於いて、反応管の着脱を容易にし、而もスループットの向上が図る。【構成】反応管3をヒータベース12に対して着脱可能とし、該ヒータベースを昇降可能且水平方向に移動可能に支持し、前記反応管をヒータベースと一体に装置外部に移動可能とし、反応管の清浄を行う場合、反応管をヒータベースと共に上昇させ、他の部位との切離しを行い、更に装置の外部に移動させ、反応管の着脱作業は、装置の外部で行う。
請求項（抜粋）：
反応管をヒータベースに対して着脱可能とし、該ヒータベースを昇降可能且水平方向に移動可能に支持し、前記反応管をヒータベースと一体に装置外部に移動可能としたこと特徴とする縦型拡散・CVD装置。
IPC (4件)：
H01L 21/22
, C30B 25/08
, C30B 25/14
, H01L 21/205
