特許

J-GLOBAL ID：200903060929808957

励起された、および/またはイオン化された粒子をプラズマ内で発生するための装置

発明者： グスチェバンドナー・アレクサンダ
出願人/特許権者： アールスリーティー・ゲーエムベーハー・ラピッド・リアクティブ・ラジカルス・テクノロジ
代理人 (1件)： 中島 昇
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-526335
公開番号（公開出願番号）：特表2008-518092
出願日： 2005年08月03日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：

励起された、および/またはイオン化された粒子をプラズマ内でプロセスガスから発生するための装置が提供され、この装置は円筒状に形成され、内部でプラズマ帯域が発生可能な内部空間(3)、同軸内側導体(10)、同軸外側導体(11)、プロセスガスが内部空間(3)へ供給可能な入口(14)、プロセスガスが内部空間(3)から排気可能な出口(15)を有し、同軸内側導体(10)が少なくとも部分的に曲がった形状を有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

円筒状に形成され、内部でプラズマ帯域が発生可能な内部空間(3)、同軸内側導体 (10)、同軸外側導体(11)、プロセスガスが内部空間(3)へ供給可能な入口 (14)、プロセスガスが内部空間(3)から排気可能な出口(15)を有する、励起 された、および/またはイオン化された粒子をプラズマ内でプロセスガスから発生する ための装置であって、同軸内側導体(10)が少なくとも部分的に曲がった形状を有す ることを特徴とする励起された、および/またはイオン化された粒子をプラズマ内でプ ロセスガスから発生するための装置。

IPC (3件)：

C23C 16/511 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

C23C16/511 ,  H05H1/46 B ,  H01L21/31 C

Fターム (26件)：

4K030BA01 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA29 ,  4K030BA38 ,  4K030BB03 ,  4K030CA04 ,  4K030DA06 ,  4K030FA01 ,  4K030KA04 ,  4K030LA15 ,  5F045AA08 ,  5F045AE01 ,  5F045AF03 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045DP28 ,  5F045DQ05 ,  5F045EC05 ,  5F045EF03 ,  5F045EH04 ,  5F045EH12 ,  5F045EJ05 ,  5F045EJ09 ,  5F045EJ10 ,  5F045EK06