特許
J-GLOBAL ID：200903060939422240
欠陥検査装置およびその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-037816
公開番号（公開出願番号）：特開平6-249789
出願日： 1993年02月26日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：
【要約】【目的】本発明の目的は、ホトマスク等の回路パターン付基板、特に転写解像度の向上等を目的とした位相シフト膜を有するレチクル上に付着したサブミクロンオーダーの微細な異物等の欠陥を安定して検出する欠陥検出装置およびその方法を提供することにある。【構成】本発明は、第1および第2の表面照明系(2、20)により試料表面側(波長約780nm)並びに第1および第2の裏面照明系(3、30)により試料裏面側(波長約488nm)から斜方照明を行い、試料表面側のNA0.4以上の光学系(41)で、発生する散乱光を集光、照明方向別に波長分離して、フーリエ変換面上に設けた空間フィルタ(44,444)により回路パターンからの回折光を遮光、検出器(51)上に結像させる検出光学系(4)と、検出器の検出値を照明むらに合わせて補正する回路(113、123)と2×2画素の検出値の加算値を求める回路および検出器がその周囲4方向へ1画素ずつシフトした4つの加算値の最大値を求める回路(114、124)等から構成される。
請求項（抜粋）：
遮光膜、あるいは光透過膜で形成されたパターンを有する透明または半透明基板上に付着した異物等の欠陥を検出する欠陥検査装置において、前記基板を載置してX,Y,Zの各方向へ任意に移動可能なステージおよびその駆動制御系からなる検査ステージ部と、前記基板のパターン面に反射照明および透過照明を行う照明系と、直接反射光および直接透過光は集光せず、基板から発生する散乱光および回折光を集光して、照明方向別に光線分離し、分離後の各フーリエ変換面上に設けた空間フィルタによりパターンの直線部分からの回折光を遮光して、各々検出器上に結像する検出光学系と、前記各検出器の出力に基づいて基板上の欠陥データを演算表示する信号処理系とを備えることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/66
