特許
J-GLOBAL ID:200903060943701588
循環流動層炉の脱硫方法とその装置
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 昌久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-058945
公開番号(公開出願番号):特開2001-248817
出願日: 2000年03月03日
公開日(公表日): 2001年09月14日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、脱硫剤の投入により炉内温度の低下を招くことがなく、かつ燃費や排ガス性状の向上を図ることが可能な循環流動層炉の脱硫方法とその装置に関する。【構成】 流動層炉内に脱硫剤を直接投入することにより炉内の硫黄酸化物を除去する循環流動層炉の脱硫方法において、前記流動層炉1に具えられた選択された任意ののぞき窓部10aのシールエア供給部15下流側に脱硫剤20を投入し、該脱硫剤20を燃焼反応により生じる硫黄酸化物と反応させて該硫黄酸化物を除去することを特徴とし、前記のぞき窓をシールポット6出口とライザ2入口の間に位置する循環流動砂還流路7に位置するのぞき窓部10aとする。
請求項(抜粋):
流動層炉内に脱硫剤を直接投入することにより炉内の硫黄酸化物を除去する循環流動層炉の脱硫方法において、前記流動層炉に具えられた選択された任意ののぞき窓部のシールエアに脱硫剤を混入し、該脱硫剤を前記シールエアに同伴させて炉内に送給し、燃焼反応により生じる硫黄酸化物と反応させて該硫黄酸化物を除去することを特徴とする循環流動層炉の脱硫方法。
IPC (6件):
F23G 5/30 ZAB
, B01D 53/50
, B01D 53/81
, F23C 10/00
, F23G 5/00 ZAB
, F23M 11/04 101
FI (5件):
F23G 5/30 ZAB M
, F23G 5/00 ZAB D
, F23M 11/04 101
, B01D 53/34 124 Z
, F23C 11/02 304
Fターム (18件):
3K064AA02
, 3K064AB03
, 3K064AD08
, 3K064AE13
, 3K064AF03
, 3K064BA07
, 3K064BA17
, 4D002AA02
, 4D002AC04
, 4D002BA03
, 4D002BA14
, 4D002CA09
, 4D002CA20
, 4D002DA05
, 4D002DA12
, 4D002DA16
, 4D002DA47
, 4D002EA02
前のページに戻る