特許
J-GLOBAL ID：200903060958309285
投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-026472
公開番号（公開出願番号）：特開平7-235475
出願日： 1994年02月24日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【目的】フォトレジストの表面の傾きと高さの検出を安定な状態で検出して、検出面を投影レンズの焦点マージン内に高精度で制御でき、かつ光源交換のための作業時間を短くし、装置の稼働率向上に寄与する投影露光装置を提供することにある。【構成】レーザ光源とレーザ光を光源とする検出器の間で、レーザ光源より出射した光の伝達を光ファイバで行い、チャンバの外にレーザ光源を設置し、検出手段に導く構成である。【効果】本発明によれば、レーザ光源と検出系を別位置に設置出来るために、安定で高精度な検出ができる。また、レーザの寿命等による交換が生じても検出系でのアライメント作業が皆無となり、装置の停止時間の低減、稼働率向上が可能となる効果が得られる。
請求項（抜粋）：
可干渉性のビームを出射する単色レーザ光源と、このレーザ光を伝達する光ファイバを備えた伝達手段と、この伝達手段から出射するレーザ光のビームを複数ビームに分割し、参照光を発生する手段と、試料上に入射角θで照射させる照明手段と、試料からの反射光と参照光をパターン検出器上で重畳し、干渉させる検出手段と、検出手段で得られた情報から高さ、傾きの情報を得る処理手段と、この情報に基づき試料を制御するステージ処理手段とで構成されたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G01B 11/26
, G03F 9/00
