集積回路製造用露光装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-191493
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022216
出願日： 1996年07月02日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】水素ドープされた石英ガラスからなる光学系を用いてArFエキシマレーザー露光装置を構成する場合においても、耐久性や品質を劣化させる事なく、光学系全体として低コストで製造容易に構成する。【解決手段】光学系を構成する少なくともレンズを水素ドープされた合成石英ガラス製光学部材で構成するとともに、該レンズを水素分子濃度の異なる複数種の石英ガラス製光学部材群で構成し、夫々の光学部材群の水素分子濃度C<SB>H2</SB>(分子/cm<SP>2</SP>)が、対応するレンズを透過するArFエキシマレーザー光の1パルス当たりのエネルギー密度をε(mJ/cm<SP>2</SP>)として、ε<0.2mJ/cm<SP>2</SP>においては、式19.2+2.98Logε≦Log(C<SB>H2</SB>) <18.6 ...1)ε≧0.2mJ/cm<SP>2</SP>においては式19.2+2.98Logε≦Log(C<SB>H2</SB>)≦20.7+2.98Logε ...2)で規定される範囲にあるように設定した事を特徴とする。

請求項（抜粋）：

ArFエキシマレーザーからのレーザ光で集積回路のパターンを照明し、石英ガラス材からなる光学系により集積回路のパターンをウエーハ上に焼き付けて集積回路を製造する為の露光装置において、前記光学系を構成する少なくともレンズを水素ドープされた合成石英ガラス製光学部材で構成するとともに、該レンズを水素分子濃度の異なる複数種の石英ガラス製光学部材群で構成し、夫々の光学部材群の水素分子濃度 C<SB>H2</SB>(分子/cm<SP>3</SP>)が、対応するレンズを透過するArFエキシマレーザー光の1パルス当たりのエネルギー密度をε(mJ/cm<SP>2</SP>)として、ε<0.2mJ/cm<SP>2</SP>においては、式19.2+2.98Logε≦Log(C<SB>H2</SB>)<18.6ε≧0.2mJ/cm<SP>2</SP>においては、式19.2+2.98Logε≦Log(C<SB>H2</SB>)≦20.7+2.98Logεで規定される範囲にあるように設定した事を特徴とする半導体露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01S 3/225

FI (5件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 B , H01S 3/223 E

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