特許

J-GLOBAL ID：200903060966391586

ロジン系フラックス用洗浄剤

発明者： 小尾 邦寿
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-128265
公開番号（公開出願番号）：特開平6-313195
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月08日
要約：

【要約】【目的】 安全で臭いが少なく、水すすぎ性が良好なロジン系フラックス洗浄剤を提供する。【構成】 C6H5-O-(CH3CH2O)-H(nは1〜3の整数)で表せるポリオキシエチレンモノベンジルエーテルを70wt%以上含有して洗浄座とする。また、ポリオキシエチレンモノベンジルエーテル70wt%と、ピナン,パラ-メンタン,ジヒドロターピネオール,ジヒドロターピニルアセテート,イソボニルアセテートの単量体または二量体の群から選ばれる完全水素化テルペン数5〜30wt%を含有する洗浄剤とする。

請求項（抜粋）：

一般式C6 H5 -O-(CH3 CH2 O)n -H(nは1〜3の整数)で表わされるポリオキシエチレンモノベンジルエーテルを70重量%以上含有することを特徴とするロジン系フラックス用洗浄剤。

IPC (4件)：

C11D 7/26 ZAB ,  C11D 7/60 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:24