特許

J-GLOBAL ID：200903060976491309

電子ビーム装置

発明者： 中沢 和広 ,  伊藤 昭夫
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-227608
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086348
出願日： 1993年09月13日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】【目的】 1次電子と2次電子を同時に最適制御し、試料表面の帯電状況に関係なく常に分析器の動作条件を最適にし、結果として自動的な最適分析を可能とした電子ビーム装置を提供することを目的とする。【構成】 1次電子ビームEBを試料SPLに収束・照射する手段を備え、試料SPLから発生する2次電子SEを電界を用いて誘導し、該エネルギを減速型のエネルギ分析器により計測することで、試料SPLの電圧を測定する電子ビーム装置において、試料SPLが絶縁性のカバー膜で被われている場合に、カバー表面の帯電電位を2次電子SEのエネルギ分析曲線より計測する帯電電位計測手段1と、帯電電位計測手段1の計測値に基づき、エネルギ分析器の動作条件を最適値に設定する分析器動作条件最適化手段3とを有して構成する。

請求項（抜粋）：

1次電子ビーム(EB)を試料(SPL)に収束・照射する手段を備え、前記試料(SPL)から発生する2次電子(SE)を電磁界を用いて誘導し、該エネルギを減速型のエネルギ分析器により計測することで、前記試料(SPL)の電圧を測定する電子ビーム装置において、前記試料(SPL)が絶縁性のカバー膜で被われている場合に、カバー表面の帯電電位を2次電子(SE)のエネルギ分析曲線より計測する帯電電位計測手段(1)と、前記帯電電位計測手段(1)の計測値に基づき、エネルギ分析器の動作条件を最適値に設定する分析器動作条件最適化手段(3)と、を有することを特徴とする電子ビーム装置。

IPC (3件)：

H01L 21/66 ,  G01R 19/00 ,  G01R 31/302