特許

J-GLOBAL ID：200903060990242281

汚水処理装置

発明者： 森泉 雅貴 ,  藤本 恵一
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-372938
公開番号（公開出願番号）：特開2000-189977
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】【課題】 電極を用いた電解反応を阻害されない汚水処理装置を提供する。【解決手段】 流入口6から送り込まれ、第1嫌気漏床槽5、第2嫌気漏床槽10、生物ろ過槽14を順に送られた処理水は、第1返送管24を介して電解槽37に送り込まれる。電解槽37では、リン化合物の処理のために、電極41,42を用いた電解反応が行なわれる。電解槽37内には、排出口47を介して、流入口6から送り込まれる生活雑排水が逆流する恐れがある。生活雑排水に含まれるスカムは、電極41,42の電解反応を阻害する恐れがある。電解槽37は、排出口47を開閉可能に覆う蓋36を備えている。蓋36は、浮玉35に接続されている。第1嫌気漏床槽5の水位がある程度上昇すると、浮玉35が浮き上がることにより、蓋36が、自動的に、排出口47を閉じる。

請求項（抜粋）：

汚水を処理する汚水処理装置であって、汚水を収容する汚水処理部を含み、前記汚水処理部は、処理水を排出する排出口を備え、鉄イオンまたはアルミニウムイオンを前記汚水処理部に供給するイオン供給部を含み、前記イオン供給部は、電極を備え、電解反応により前記鉄イオンまたはアルミニウムイオンを供給し、前記排出口を開閉可能に覆う蓋体を含む、汚水処理装置。

IPC (8件)：

C02F 1/463 ,  C02F 1/465 ,  B01D 61/14 500 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/00 ,  C02F 3/12 ,  C02F 3/12 ZAB ,  C02F 3/30 CDP

FI (8件)：

C02F 1/46 102 ,  B01D 61/14 500 ,  C02F 1/44 E ,  C02F 1/44 F ,  C02F 3/00 B ,  C02F 3/12 E ,  C02F 3/12 ZAB S ,  C02F 3/30 CDP B

Fターム (48件)：

4D006GA02 ,  4D006HA93 ,  4D006HA95 ,  4D006KA01 ,  4D006KB13 ,  4D006KB22 ,  4D006KD08 ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006MA22 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB70 ,  4D006PC62 ,  4D027AB01 ,  4D027AB12 ,  4D027AB14 ,  4D027BA04 ,  4D028AA08 ,  4D028AC01 ,  4D028AC09 ,  4D028BC05 ,  4D028BC17 ,  4D028BC18 ,  4D028BC26 ,  4D028BD10 ,  4D028BD16 ,  4D028BD17 ,  4D028BE00 ,  4D040BB01 ,  4D040BB15 ,  4D040BB42 ,  4D040BB51 ,  4D040BB82 ,  4D040BB91 ,  4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC13 ,  4D061EA03 ,  4D061EA07 ,  4D061EB14 ,  4D061EB20 ,  4D061EB27 ,  4D061EB28 ,  4D061ED06 ,  4D061FA09 ,  4D061FA13 ,  4D061FA15