面形状測定装置及びそれを用いた研磨装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-190113
公開番号（公開出願番号）：特開平10-019537
出願日： 1996年07月01日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】化学的機械的研磨で半導体デバイスの表面の平坦化を図る際の表面状態を検出して研磨終了点を適切に判断し、良好に平坦化された半導体デバイスが得られる面形状測定装置及びそれを用いた研磨装置を得ること。【解決手段】 λ/4板を設けた基準ガラスを基板表面に該λ/4板が基板表面側に位置するように対向配置し、光源からの光束を該基準ガラスとλ/4板を介して基板表面に照射し、該基準ガラスの基準面で反射した参照光と該基板表面で反射した物体光とを干渉計により互いに干渉させたときに得られる干渉信号を利用して該基板表面の面形状を測定していること。

請求項（抜粋）：

λ/4板を設けた基準ガラスを基板表面に該λ/4板が基板表面側に位置するように対向配置し、光源からの光束を該基準ガラスとλ/4板を介して基板表面に照射し、該基準ガラスの基準面で反射した参照光と該基板表面で反射した物体光とを干渉計により互いに干渉させたときに得られる干渉信号を利用して該基板表面の面形状を測定していることを特徴とする面形状測定装置。

IPC (3件)：

G01B 11/30 102 , G01B 11/30 101 , B24B 37/00

FI (3件)：

G01B 11/30 102 B , G01B 11/30 101 A , B24B 37/00 Z

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