シルフェニレン骨格含有高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板回路保護用皮膜

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-021023
公開番号（公開出願番号）：特開2008-184571
出願日： 2007年01月31日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：

【解決手段】式(1)の繰り返し単位を有するMwが3,000〜500,000のシルフェニレン骨格含有高分子化合物。[R1〜R4は1価炭化水素基を示す。mは1〜100、aは正数、bは0又は正数、0.5≦a/(a+b)≦1.0、Xは脂肪族又は脂環族連結ジフェノール含有の二価の有機基。]【効果】高分子化合物を使用することにより幅広い波長領域の光で1μmに満たない薄膜から20μmを超えるような厚膜での幅広い膜厚に亘り、微細なパターン形成を行うことができる光硬化性樹脂組成物を製造することが可能となる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量が3,000〜500,000のシルフェニレン骨格含有高分子化合物。

IPC (4件)：

C08G 77/52 , G03F 7/038 , H01L 21/027 , C08G 77/60

FI (4件)：

C08G77/52 , G03F7/038 601 , H01L21/30 502R , C08G77/60

Fターム (42件)：

2H025AA02 , 2H025AA06 , 2H025AA07 , 2H025AA10 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB30 , 2H025CB32 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 2H025FA29 , 4J246AA03 , 4J246AA08 , 4J246AA11 , 4J246AB01 , 4J246AB02 , 4J246BA02X , 4J246BA020 , 4J246BB02X , 4J246BB021 , 4J246BB12X , 4J246BB122 , 4J246BB20X , 4J246BB201 , 4J246BB45X , 4J246BB452 , 4J246CA230 , 4J246CA24X , 4J246CA240 , 4J246FA221 , 4J246FA451 , 4J246FC161 , 4J246GC26 , 4J246HA15 , 4J246HA62 , 4J246HA69

引用特許：

出願人引用 (11件)

特開昭49-115541号公報
光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-095515 出願人：太陽インキ製造株式会社
オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-276897 出願人：信越化学工業株式会社

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