特許
J-GLOBAL ID：200903061014348500
薄膜トランジスタ配列基板上のフルカラー有機エレクトロルミネセンス表示配列にパターン化された有機層
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-149055
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054275
出願日： 1998年05月29日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】 二次元薄膜トランジスタ配列基板にフルカラーエレクトロルミネセンス(EL)表示器の高精度パターン化有機層を形成する方法を提供する。【解決手段】 基板は副画素を有し、各副画素は隆起面部分と底部電極を露出する一つの凹陥面部分を有する。赤色、緑色、青色のカラー形成有機EL層は選択されたカラーパターンにより指定された副画素で形成される。この方法は有機EL材料の転写可能なコーティングでコーディングとされたドナー支持体を用いる。ドナー支持体は有機EL材料が指定された副画素のカラー化されたEL媒体を形成するために基板の指定された凹陥面部分に転写するよう加熱される。光マスクあるいは開口マスクが赤、緑、青の有機EL媒体を指定されたカラーEL副画素に選択的に蒸着するよう用いられる。
請求項（抜粋）：
a) 複数の画素を有する薄膜トランジスタ(TFT)の配列を含むエレクトロルミネセンス(EL)表示器用の基板を設け;b) 赤色、緑色、青色のカラーEL副画素として指定された副画素を有する各画素を形成し;c) EL要素と少なくとも一つのTFTを有する各カラーEL副画素を形成し;d) 基板上に底部電極と、有機EL媒体と、上部電極とを有する各EL素子を形成し;e) カラーEL副画素の凹陥部分に底部電極を配置し;f) 基板に接触し、又はそれに近接して保持された開口マスクを通して各カラーEL副画素に対する有機EL媒体を蒸着により堆積する各段階からなるフルカラー有機EL表示器を製造する方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H05B 33/02
, H05B 33/14
H05B 33/10
, H05B 33/02
, H05B 33/14 A
