特許

J-GLOBAL ID：200903061021433025

透過電子顕微鏡用試料の作製方法

発明者： 鈴 木 俊 明 ,  西 岡 秀 夫 ,  佐 藤 泰 彦 ,  奥 西 栄 治 ,  遠 藤 徳 明
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-367715
公開番号（公開出願番号）：特開2004-198276
出願日： 2002年12月19日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】所望の断面を持つ薄膜試料を容易に作製することができる透過電子顕微鏡用試料の作製方法を提供する。【解決手段】試料素材から切り出された試料ブロック1は、試料ベース2の載置面2a上に置かれる。このとき、試料ブロック1の加工面が横を向くように、すなわち試料ブロック1加工面と載置面2aとが直交するように、試料ブロック1は載置面2a上に置かれる。この後、試料ベース2はFIBに装着され、試料ブロック1の薄膜加工が行われる。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

試料素材の加工面にイオンビームを照射して試料ブロックを切り出し、 前記試料ブロックの前記加工面を横に向けて試料ブロックを試料台の載置面上に置き、 前記試料ブロックにイオンビームを照射して、前記試料ブロックを前記載置面に対してほぼ垂直に立つ薄膜に加工する ことを特徴とする透過電子顕微鏡用試料の作製方法。

IPC (4件)：

G01N1/28 ,  G01N1/06 ,  G01N1/32 ,  H01J37/20

FI (4件)：

G01N1/28 F ,  G01N1/06 H ,  G01N1/32 B ,  H01J37/20 Z

Fターム (7件)：

2G052AD32 ,  2G052EC18 ,  2G052EC22 ,  2G052GA34 ,  2G052JA04 ,  5C001AA08 ,  5C001CC01