特許
J-GLOBAL ID:200903061024982909
バッチ式焼鈍による粒度制御に適した純チタン
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田村 弘明 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-131506
公開番号(公開出願番号):特開平10-317118
出願日: 1997年05月21日
公開日(公表日): 1998年12月02日
要約:
【要約】【課題】 大ロット生産と焼鈍工程にバッチ式焼鈍を採用する前提条件において、従来行われていたヒ-トパタ-ンの改善による結晶粒度の均一化に加えて、より一層の均一化を実現できる純チタン(インゴット、スラブ、熱延コイル等)を提供する。【解決手段】 結晶粒度番号を4.0以上、6.5以下に調整することを目的に、鉄を0.010wt%以上、0.035wt%以下含有することを特徴とするバッチ式焼鈍による粒度制御に適した純チタン、及び結晶粒度番号を8.0以上、11.0以下に調整することを目的に、鉄を0.035wt%以上、0.50wt%以下含有することを特徴とするバッチ式焼鈍による粒度制御に適した純チタン。
請求項(抜粋):
結晶粒度番号が4.0以上、6.5以下で、かつ鉄を0.010wt%以上、0.035wt%以下含有することを特徴とするバッチ式焼鈍による粒度制御に適した純チタン。
IPC (7件):
C22F 1/18
, C22C 14/00
, C22F 1/00 601
, C22F 1/00 684
, C22F 1/00 686
, C22F 1/00 691
, C22F 1/00
FI (7件):
C22F 1/18 H
, C22C 14/00 Z
, C22F 1/00 601
, C22F 1/00 684 C
, C22F 1/00 686 A
, C22F 1/00 691 B
, C22F 1/00 691 C
引用特許: