特許

J-GLOBAL ID：200903061026371648

洗浄方法および組成

発明者： フリン,リチャード,エム. ,  グレンフェル,マーク ダブリュ. ,  ムーア,ジョージ,ジー.,アイ. ,  オーウェンズ,ジョン,ジー.
出願人/特許権者： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-522319
公開番号（公開出願番号）：特表平10-512609
出願日： 1996年01月11日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】少なくとも1種のモノアルコキシ置換、ジアルコキシ置換、またはトリアルコキシ置換したペルフルオロアルカン化合物、ペルフルオロシクロアルカン化合物、ペルフルオロシクロアルキル含有ペルフルオロアルカン化合物、またはペルフルオロシクロアルキレン含有ペルフルオロアルカン化合物を含み、前記化合物はさらにカテナリーヘテロ原子を任意に含む洗浄組成物と基材表面を接触させることを含む汚染物質を基材表面から除去する方法。この化合物は、優れた溶解特性を示すと同時に環境的に容認される。

請求項（抜粋）：

基材表面から汚染物質を除去する方法であって、少なくとも1種のモノアルコキシ置換、ジアルコキシ置換、またはトリアルコキシ置換したペルフルオロアルカン化合物、ペルフルオロシクロアルカン化合物、ペルフルオロシクロアルキル含有ペルフルオロアルカン化合物、またはペルフルオロシクロアルキレン含有ペルフルオロアルカン化合物を含み、前記化合物はさらに1個以上のカテナリーヘテロ原子を任意に含む液相洗浄組成物または蒸気相洗浄組成物またはその両者と基材表面を接触させる工程を含む方法。

IPC (4件)：

C11D 7/28 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50

FI (4件)：

C11D 7/28 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50