ポロゲン、ポロゲン化された前駆体および低誘電率をもつ多孔質有機シリカガラス膜を得るためにそれらを使用する方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 田崎豪治 , 西山雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-113408
公開番号（公開出願番号）：特開2004-006822
出願日： 2003年04月17日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】低い誘電率および改良された機械的性質、熱的安定性および化学的耐性を有する多孔質有機シリカガラス膜を提供する。【解決手段】式SivOwCxHyFz(ここで、v+w+x+y+z=100%、vは10〜35原子%、wは10〜65原子%、xは5〜30原子%、yは10〜50原子%、およびzは0〜15原子%)で表わされる多孔質有機シリカガラス膜を製造する。オルガノシランおよびオルガノシロキサンからなる群より選ばれる前駆体ならびにポロゲンを含むガス状試薬を真空チャンバに導入し、ガス状試薬にエネルギーを加え、ガス状試薬の反応を生じさせて基体上に予備的な膜を堆積させる。その予備的な膜は細孔を持ち、誘電率が2.6未満である多孔質膜を得るために、実質的にすべてのポロゲンを除去される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

式SivOwCxHyFz(ここで、v+w+x+y+z=100%、vは10〜35原子%、wは10〜65原子%、xは5〜30原子%、yは10〜50原子%、およびzは0〜15原子%)で表わされる多孔質有機シリカガラス膜を製造するための化学蒸着方法であり、該方法は: 真空チャンバ内に基体を用意すること; オルガノシランおよびオルガノシロキサンからなる群より選ばれる少なくとも1つの前駆体ならびにポロゲンを含むガス状試薬を真空チャンバに導入すること; 真空チャンバ内のガス状試薬にエネルギーを加え、ガス状試薬の反応を生じさせて基体上に予備的な膜を堆積させること、ここでその予備的な膜はポロゲンを含み、そして予備的な膜はポロゲンが少なくとも1つの前駆体と区別しうるときに酸化体を添加しないで堆積される;ならびに、細孔を持ち、誘電率が2.6未満である多孔質膜を得るために、予備的な膜から実質的にすべてのポロゲンを除去すること、を含む化学蒸着方法。

IPC (2件)：

H01L21/312 , C23C16/42

FI (2件)：

H01L21/312 C , C23C16/42

Fターム (21件)：

4K030AA01 , 4K030AA06 , 4K030BA42 , 4K030BA44 , 4K030BB01 , 4K030CA04 , 4K030FA01 , 4K030JA06 , 4K030JA10 , 4K030LA15 , 5F058AA10 , 5F058AC03 , 5F058AC05 , 5F058AD05 , 5F058AD06 , 5F058AF02 , 5F058AG01 , 5F058AG07 , 5F058AG09 , 5F058AG10 , 5F058AH02

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