特許

J-GLOBAL ID：200903061036560457

プラズマ処理装置

発明者： 金尾 寛人 ,  新井 宏和
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-163470
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031751
出願日： 1994年07月15日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【構成】 反応容器15内壁面の全面をプラズマ雰囲気から保護するための内壁面保護部材18が反応容器15内に配設されたプラズマ処理装置において、内壁面保護部材18の内部に流体経路16dが形成され、流体経路16dに恒温流体19を供給する流体供給手段16を備えているプラズマ処理装置。【効果】 内壁面保護部材18と恒温流体19との間の熱交換が直接的に効率よく行なわれるため、また恒温流体19の温度と循環量とを制御することにより内壁面保護部材18を一定温度に保つことができ、内壁面保護部材18の温度を容易に均一化することができる。このため、内壁面保護部材18と付着物との間の熱膨張係数差によって生じる熱応力を緩和させることができ、内壁面保護部材18の表面に付着した付着物の剥離を最小限に抑制することができる。したがってパーティクルによる試料Sの汚染を少なくすることができ、汚染に起因するウエハの品質低下を軽減することができ、しかもプラズマ処理装置の稼動率の向上を図ることができる。

請求項（抜粋）：

反応容器内壁面の全面もしくは一部をプラズマ雰囲気から保護するための内壁面保護部材が反応容器内に配設されたプラズマ処理装置において、少なくともプラズマ生成部側に存在する前記内壁面保護部材の内部に流体経路が形成され、該流体経路に恒温流体を供給する流体供給手段を備えていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46 ,  G01R 33/64

FI (3件)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 F ,  G01N 24/14 B