特許

J-GLOBAL ID：200903061045952236

放電プラズマ処理方法及びその装置

発明者： 川崎 真一
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-011657
公開番号（公開出願番号）：特開2003-218099
出願日： 2002年01月21日
公開日（公表日）： 2003年07月31日
要約：

【要約】【課題】 被処理体面上におけるプラズマガスの滞留を抑え、簡単な方法で被処理体表面を均一に処理できる処理方法及びその装置の提供。【解決手段】 少なくとも一方の電極対向面が固体誘電体で被覆された一対の対向電極間に電界を印加し、前記対向電極間に処理ガスを導入してグロー放電プラズマを発生させる電極構造のプラズマ吹き出しノズルから、プラズマ発生空間外に配置された被処理体にプラズマを吹き付けて処理を行う処理方法において、被処理体とプラズマ吹き出し方向がなす角度が0〜70度であることを特徴とする放電プラズマ処理方法及び装置。

請求項（抜粋）：

少なくとも一方の電極対向面が固体誘電体で被覆された一対の対向電極間に電界を印加し、前記対向電極間に処理ガスを導入してグロー放電プラズマを発生させる電極構造のプラズマ吹き出しノズルから、プラズマ発生空間外に配置された被処理体にプラズマを吹き付けて処理を行う処理方法において、被処理体とプラズマ吹き出し方向がなす角度が0〜70度であることを特徴とする放電プラズマ処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  B01J 19/08 ,  H05H 1/24

FI (3件)：

H01L 21/31 C ,  B01J 19/08 H ,  H05H 1/24

Fターム (27件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA06 ,  4G075BB10 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA16 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB43 ,  4G075EC09 ,  4G075EC15 ,  4G075EC21 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC16 ,  5F045AE29 ,  5F045AF03 ,  5F045EB02 ,  5F045EC01 ,  5F045EE06 ,  5F045EF02 ,  5F045EG05 ,  5F045EH12