特許

J-GLOBAL ID：200903061062893227

位置合わせ方法

発明者： 入江 信行 ,  高根 栄二
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-019748
公開番号（公開出願番号）：特開平6-232028
出願日： 1993年02月08日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：

【要約】【目的】 統計的手法を採用した位置合わせ方法の処理条件を最適化する。【構成】 ウエハW上のショット領域毎に、アライメントマークMx、Myを複数回検出して求めた複数の座標位置を平均化処理して真の座標位置を決定する。さらにウエハW上のサンプルショット毎に、その真の座標位置(Xtm、Ytm)に対してアライメントセンサーの計測再現性(誤差分布)と等しい標準偏差を持つ正規分布乱数(RX1m、RY1m)を与えた上で、この複数の座標位置(Xt1+RX11、Yt1+RY11)、(Xt2+RX12、Yt2+RY12)、・・・・(Xtm+RX1m、Ytm+RY1m)を統計演算してウエハW上の各ショット領域の座標位置を算出する。そして、この算出された座標位置と真の座標位置との偏差が所定の許容値以下となるように統計演算での処理条件(サンプルショットの数や位置等)を決定する。

請求項（抜粋）：

基板上に配列された複数の処理領域の各々を、該基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の基準位置に対して位置合わせするにあたって、前記複数の処理領域のうち予め特定処理領域として選択した少なくとも3つの処理領域の前記静止座標系上での座標位置を計測し、該計測した複数の座標位置を統計演算することによって、前記基板上の複数の処理領域の各々の前記静止座標系上での座標位置を算出する位置合わせ方法において、前記処理領域毎に、前記座標位置を複数回計測するとともに、該計測した複数の座標位置を統計演算して第1の座標位置を決定する第1工程と;前記特定処理領域毎に、前記座標位置の計測信頼性に応じて前記第1の座標位置を補正するとともに、該補正された複数の第1の座標位置を統計演算して前記複数の処理領域の各々の第2の座標位置を算出する第2工程と;前記処理領域毎の前記第1の座標位置と前記第2の座標位置との位置ずれ量が所定の許容値以下となるように、前記統計演算における処理条件を決定する第3工程とを含み、該決定された処理条件のもとで前記統計演算を行うことにより、前記複数の処理領域の各々の前記座標位置を算出することを特徴とする位置合わせ方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00