特許
J-GLOBAL ID:200903061077587076
光学素子及び光学素子の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
河野 登夫
, 河野 英仁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-181885
公開番号(公開出願番号):特開2004-029153
出願日: 2002年06月21日
公開日(公表日): 2004年01月29日
要約:
【課題】短時間かつ低コストで作製することができる光学素子及び光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】アルミニウム等の金属を含有し、マイクロ波(3×108 Hz〜3×1012Hz)又は赤外線(3×1011 Hz〜4×1014Hz)領域の電磁波を反射するインクを用いて、電磁波を透過させる紙等の基体12に、熱転写プリンタ,インクジェットプリンタ,昇華型プリンタ,レーザプリンタ,ドットプリンタ等のプリンタで反射部14を印刷し、電磁波を透過する透過部と電磁波を反射する反射部とが周期的に形成された光学素子10を製造する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
電磁波を透過させる基体に、電磁波を反射する反射部が形成された光学素子において、
反射部は、電磁波を反射するインクで基体に印刷されていることを特徴とする光学素子。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (7件):
2H048FA05
, 2H048FA07
, 2H048FA12
, 2H049BA02
, 2H049BA45
, 2H049BC23
, 2H049BC25
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