特許

J-GLOBAL ID：200903061080093866

レジスト現像方法及びその装置

発明者： 鈴木 克美
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-228118
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196397
出願日： 1992年08月27日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：

【要約】【目的】 縦横比の大きい超微細レジストパターンが現像工程で倒壊するのを防止する。【構成】 基板11の真空吸着機構と回転機構を芝に備えた基板ホルダー12に現像液14を供給して基板11の表面に塗布したレジストの潜像を現出し、基板ホルダー12に付加したヒーター13により基板11を加熱しつつ予め加熱したリンス液15をレジスト表面に供給して基板表面に残る現像液及び反応生成物を除去し、乾燥せしめて超微細レジストパターンを得る。液体の温度を上げるとその表面張力が小さくなり、レジストパターン間に存在する液体が乾燥する過程でレジストパターンに加わる表面張力が低減しパターンの倒壊が防げる。

請求項（抜粋）：

基板表面に塗布したレジスト膜を現像処理して所望のレジストパターンを現出させたのち、リンス液を供給して洗浄する方法において、基板自体あるいはリンス液の少なくても一方を加熱して基板表面を加熱しながら洗浄するレジスト現像方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-184331
  
• 特開昭58-017443
  
• 特開平1-164037