特許
J-GLOBAL ID:200903061103750576
凹凸パターンを有する成型品の複製方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
内田 亘彦 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-058444
公開番号(公開出願番号):特開平6-270165
出願日: 1993年03月18日
公開日(公表日): 1994年09月27日
要約:
【要約】【構成】 本発明の凹凸パターンを有する成型品4の複製方法は、樹脂板を原版1として凹凸パターンを有する成型品4を硬化性樹脂組成物2を使用した2P法により複製するにあたり、原版の保管時での温度・湿度を制御して、基板3を有する複製版4の凹凸パターン寸法を制御するものである。【効果】 本発明によれば、原版の保管時の温度および湿度を制御することによって、原版の寸法を補正し、この寸法に依存する複製版の寸法を調整することが可能となり、寸法精度のよい光ディスク、光磁気ディスク等の凹凸パターンやホログラムレンズ等のレリーフパターンを恒常的に提供することができる。
請求項(抜粋):
樹脂板を原版として凹凸パターンを有する成型品を硬化性樹脂組成物を使用した2P法により複製するにあたり、原版の保管時での温度・湿度を制御して、基板を有する複製版の凹凸パターン寸法を制御することを特徴とする凹凸パターンを有する成型品の複製方法。
IPC (8件):
B29C 39/10
, B29C 39/44
, G02B 1/04
, G03H 1/18
, G11B 7/26
, G11B 11/10
, B29C 67/00
, B29L 7:00
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