レーザー装置における光学素子及びその表面処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：杉本丈夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-087267
公開番号（公開出願番号）：特開2002-286902
出願日： 2001年03月26日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：

【要約】【課題】光学素子の表面に荒れを引き起こさずに表面に残留する研磨剤を除去して、レーザー損傷耐力の向上とレーザー装置の高出力性の向上を図る。【解決手段】本発明に係るレーザー装置における光学素子の表面処理方法は、レーザー装置2に用いられる光学素子において、光学素子を構成する素材と反応しない薬液であってしかも光学素子の研磨工程で用いられる研磨剤と反応する薬液を用意し、この薬液により前記光学素子の表面を化学処理して、光学素子の表面に影響を与えないで残留付着した研磨剤を除去することを特徴とする。前記薬液として熱濃硫酸、希アルカリ性水溶液、重クロム酸混液など広範囲の薬液を利用する。光学素子には、レーザーガラス4、反射筒8、全反射鏡10、部分反射鏡12、偏光板、ビームスプリッターなどがある。表面が荒らされずに残留付着した研磨剤や有機物を除去できるので、光学素子のレーザー損傷耐力を向上でき、長寿命化と同時にレーザー出力の一層の高出力化を実現できる。

請求項（抜粋）：

レーザー装置に用いられる光学素子において、光学素子を構成する素材と反応しない薬液であってしかも光学素子の研磨工程で用いられる研磨剤と反応する薬液を用意し、この薬液により前記光学素子の表面を化学処理して、光学素子の表面に影響を与えないで残留付着した研磨剤を除去することを特徴とするレーザー装置における光学素子の表面処理方法。

IPC (4件)：

G02B 1/10 , C03C 19/00 , C03C 23/00 , G02B 1/12

FI (4件)：

C03C 19/00 Z , C03C 23/00 A , G02B 1/12 , G02B 1/10 Z

Fターム (12件)：

2K009BB02 , 2K009DD12 , 2K009EE00 , 4G059AA11 , 4G059AB03 , 4G059AB09 , 4G059AB11 , 4G059AC03 , 4G059AC18 , 4G059AC30 , 4G059BB04 , 4G059BB12

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