特許
J-GLOBAL ID：200903061114967194
スパッタリング装置用ターゲット
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-277815
公開番号（公開出願番号）：特開平7-109568
出願日： 1993年10月08日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：
【要約】【目的】スパッタリング装置のターゲット材からの吸着ガス放出を低減して、スパッタリング処理室の汚染を軽減し、成膜の質を上げる。【構成】ターゲット材1と裏板2との接合に半田材を用いず、外周部にせっ頭円錐部を有するターゲット材1を、ターゲット材1のせっ頭円錐部と同じ外形の穴を有する押さえリング3で外周部で圧接させ、且つ、中心部をネジで締め込んで裏板2と押さえリング3の間にターゲット材1を挟持、固定する。
請求項（抜粋）：
外周部にせっ頭円錐形部を有する略円盤状のターゲット材と、外周部近傍に大口径の雄ネジ又は雌ネジ部を有する裏板と、ターゲット材のせっ頭円錐部とほぼ同じ傾斜角度と径を有するせっ頭穴部を有し、当該せっ頭円穴部で、前記ターゲット材のせっ頭円錐部と当接させて、ターゲット材を固着する押さえリングとから成り、前記押さえリングの、外周部近傍に設けた大口径の雌ネジ又は雄ネジで、前記裏板の大口径雄ネジ又は雌ネジと共働して、裏板との間にターゲット材を挟持し、かつ、ターゲット材の中央部と裏板の中央部をネジで接合固定したスパッタリング装置用ターゲット。
IPC (2件)：
引用特許：
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