遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-271404
公開番号（公開出願番号）：特開平11-109630
出願日： 1997年10月03日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】基板密着性とパタ-ンプロファイルに優れ、標準現像液適性も備えており、かつ、ArFエキシマレーザー光源に対して吸光度が低い遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物の提供。【解決手段】 (1)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物と、(2)有機概念図における無機性の数値が100以上である基を有するアセタール型部分構造が重合可能な炭素-炭素二重結合に直接あるいは2価の有機連結基を介して連結されたモノマーを繰り返し単位として含有する酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂とを含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物において、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂が下記一般式〔I〕で表される部分構造が重合可能な炭素ー炭素二重結合に直接あるいは2価の有機連結基を介して連結されたモノマーを繰り返し単位として含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1は、水素原子又はアルキル基を表し、R2は、有機概念図における無機性の数値が100以上となるように置換されたアルキル基を表す。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

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