特許

J-GLOBAL ID：200903061121102042

低ソーダアルミナの製造方法

発明者： 近藤 敏司 ,  高橋 浩
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-366986
公開番号（公開出願番号）：特開2001-180931
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
要約：

【要約】【課題】 ソーダを含有する水酸化アルミニウム又は遷移アルミナからSiO2含有量が低い低ソーダアルミナを製造し得る方法を提供する。【解決手段】 ソーダを含有する水酸化アルミニウム又は遷移アルミナに、シリカ系物質をアルミナ粒子を用いて被覆してなるシリカ系脱ソーダ剤を添加し、鉱化剤の存在下で焼成した後、該脱ソーダ剤とアルミナを分離してなる低ソーダアルミナの製造方法。

請求項（抜粋）：

ソーダを含有する水酸化アルミニウム又は遷移アルミナに、シリカ系物質をアルミナ粒子を用いて被覆してなるシリカ系脱ソーダ剤を添加し、鉱化剤の存在下で焼成した後、該脱ソーダ剤とアルミナを分離してなる低ソーダアルミナの製造方法。

IPC (3件)：

C01F 7/46 ,  H01B 3/12 337 ,  H01T 13/38

FI (3件)：

C01F 7/46 ,  H01B 3/12 337 ,  H01T 13/38

Fターム (21件)：

4G076AA02 ,  4G076AB06 ,  4G076BA39 ,  4G076BA40 ,  4G076BA46 ,  4G076BC08 ,  4G076BD02 ,  4G076BE20 ,  4G076CA02 ,  4G076CA26 ,  4G076CA36 ,  4G076DA30 ,  4G076FA02 ,  5G059FF02 ,  5G303AA10 ,  5G303AB20 ,  5G303BA12 ,  5G303CA01 ,  5G303CB01 ,  5G303DA05 ,  5G303DA06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭56-149319