精密電鋳方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-076747
公開番号（公開出願番号）：特開平8-269764
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1996年10月15日
要約：

【要約】【目的】高強度構造材料の厚膜、高精度膜を提供することを目的としている。【構成】レ-ザ-によりレジストを投影除去加工した電鋳マスクを用いて電鋳を行なう方法とした。

請求項（抜粋）：

フォトレジストをマスクとして利用する精密電鋳方法において、レ-ザ-によりレジストを投影除去加工した電鋳マスクを用いて電鋳を行なうことを特徴とする精密電鋳方法。

IPC (2件)：

C25D 1/10 311 , B23K 26/00

FI (2件)：

C25D 1/10 311 , B23K 26/00 C

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