特許
J-GLOBAL ID：200903061130685450
薄膜生成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-178398
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275547
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【目的】中空電極に負、対向電極に正の電圧を印加してグロー放電を発生させて化合物ガスを分解する薄膜生成装置で生成される膜質を改善する。【構成】中空電極に近接して成膜基板を接地することにより、膜形成前駆体の移動距離を短くしてポリマー構造的な膜形成を避けると共に、高密度のプラズマの影響が避けられ、膜質が向上する。そして、中空電極を用いることによる利点、すなわち最適条件での分解ができる利点は維持される。さらに、中空電極と成膜基板の間に熱源体を介在させることにより、ポリマー構造を分解して膜質を一層良くすることができる。
請求項（抜粋）：
反応室内に負の電圧の印加される筒状の中空電極と正の電圧の印加される対向電極とが、中空電極の内部空間が対向電極に向かって開口するように配置され、またその中空電極の内部空間に向かって化合物ガスの導入口が開口し、中空電極の反対向電極側に被成膜基体支持体が存在することを特徴とする薄膜生成装置。
IPC (2件)：
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