特許
J-GLOBAL ID：200903061132722484

プラズマ処理方法

発明者：
八田 浩一

八田 浩一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-282987
公開番号（公開出願番号）：特開平10-112400
出願日： 1996年10月03日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ処理装置の圧力制御方法を提供する。【解決手段】 本発明によれば、上部排気室UCと上部真空排気系136の間及び下部真空排気室DCと下部真空排気系148との間にそれぞれ設けられている、上部圧力調整弁134及び下部圧力調整弁146の開度を調整することにより、上部排気室UCと下部排気室DCとの間に所定の排気量差を生じさる構成とした。この排気量差により、処理室PC内のガス流(プラズマ流)を適宜調整して、被処理体Wに均一なプラズマを導入することができる。また、処理中は、上記各排気室内にそれぞれ設けられている上部圧力検出器138及び下部圧力検出器140により、上記各排気室内の圧力を常時監視している。そして、初期設定条件と測定された圧力差とが異なる場合には、開度差を一定に保ちながら、上部圧力調整弁134及び下部圧力調整弁146を適宜調整する。
請求項（抜粋）：
処理室内に対向配置された上部電極と下部電極の少なくとも一方に高周波電力を印加して処理ガスをプラズマ化し、前記下部電極上に載置された被処理体に対して処理を施すプラズマ処理方法であって、前記処理室の上部に配置される上部排気室を介して前記処理室内を排気する少なくとも1つの上部真空排気系の排気量と、前記処理室の下部に配置される下部排気室を介して前記処理室内を排気する少なくとも1つの下部真空排気系の排気量との差を所定の範囲内に維持することを特徴とする、プラズマ処理方法。
IPC (8件)：
H05H 1/46 ,  C23C 14/54 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/205
FI (8件)：
H05H 1/46 M ,  C23C 14/54 B ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 C
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • ウェーハ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-178136   出願人：国際電気株式会社
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-001668   出願人：日新電機株式会社
  • 減圧気相成長装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-263251   出願人：三菱マテリアル株式会社, 三菱マテリアルシリコン株式会社
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