特許
J-GLOBAL ID：200903061143563736
プラズマエッチングにおけるエッチング監視方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 豊 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-021999
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259127
出願日： 1993年01月14日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【目的】 光干渉現象に基いて、プラズマエッチング中(もしくはデポジション中)に薄膜の除去(またはデポジション)をインラインで、受動的に監視する方法を開示している。【構成】 付加的な別の照射源を用いることなく、プラズマ放射光強度が予め選択した波長で監視されて、プラズマ放射光強度の変化が、残留厚み、エッチングの速度および均一性、およびエッチングの選択比に関連付けられる。この方法は、窒化物島状エッチング、ポリシリコンエッチング、酸化物スペーサエッチング、接点部エッチング等に有用である。またこの方法は、所定の残留層厚み(例えば薄膜が除去される直前の厚み)になった状態を検出して、その時点で、エッチング手法を、高エッチング速度でかつ低選択比のエッチング手法から低エッチング速度でかつ高選択比のエッチング手法に切換えるに有効である。
請求項（抜粋）：
プラズマエッチング中にウェハ製品上の薄膜の除去を監視するための方法であって:選定されたある波長におけるプラズマ放射光強度を監視することと;プラズマ放射光強度の変化を、残留薄膜厚みに関連付けること;とからなることを特徴とする、プラズマエッチングにおけるエッチング監視方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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