特許
J-GLOBAL ID：200903061147787701
シリコンウエハ洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-054565
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246227
出願日： 1996年03月12日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【課題】 排出されるフッ酸廃液を減少させ、廃液処理に要するコスト負担を低減させると共に、環境保護に寄与するシリコンウエハ洗浄装置を提供する。【解決手段】 洗浄槽2内の希フッ酸の上昇流中でシリコンウエハ18を洗浄する。希フッ酸はオーバーフローして集水部16に集められた後、紫外線酸化装置26で有機物が酸化分解され、陰イオン交換樹脂を充填したカラム22でケイ酸が除去され、膜処理装置24で濾過された後、洗浄槽2内に返送される。
請求項（抜粋）：
少なくとも希フッ酸を含む薬液を内部に収容すると共に前記薬液によってシリコンウエハ表面を洗浄するシリコンウエハの洗浄槽と、イオン交換樹脂を充填した薬液精製カラムを介装してなり前記薬液を前記洗浄槽外部に取り出すと共に薬液精製カラムを通過させることにより精製して前記洗浄槽に返送する薬液循環配管とを備えてなることを特徴とするシリコンウエハ洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
H01L 21/304 341 T
, H01L 21/304 341 S
, H01L 21/304 341 Z
