特許

J-GLOBAL ID：200903061150505580

改良されたレーザー融蝕性材料

発明者： ジャナイ,メイヤー ,  カスト,ヨラム ,  シルバースティン,マイケル・スティーブン ,  ゼハヴィ,シャロン
出願人/特許権者： チップ・エキスプレス・コーポレーション
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-526446
公開番号（公開出願番号）：特表平11-502060
出願日： 1996年02月27日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：

【要約】本発明は、可視光線レーザー放射によって融蝕可能なプラズマ蒸着ポリマー(PDP)の層で集積回路(3)を被覆する方法を開示する。

請求項（抜粋）：

可視光線レーザー放射によって融蝕可能なプラズマ蒸着ポリマー(PDP)層で被覆された集積回路。

IPC (4件)：

H01L 21/312 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/768

FI (4件)：

H01L 21/312 D ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/302 Z ,  H01L 21/90 S