特許
J-GLOBAL ID：200903061152035041
欠陥検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-274285
公開番号（公開出願番号）：特開平7-128248
出願日： 1993年11月02日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：
【要約】【目的】 設計情報と被検査物上のコンタクトホールの面積と位置を比較し、コンタクトホールパターンのミスサイズ欠陥や位置ずれ欠陥を精度よく検出する。【構成】 移動ステージ1の上に載置された被検査物2と、撮像装置3と、多値化回路4と、計算機5と、記憶回路8と、ビット展開回路10と、面積測定回路11,12と、比較回路13と、欠陥情報記憶回路14とを備える欠陥検査装置において、設計データはビット展開回路10によって多値データに変換されて面積測定回路11に入力され、撮像装置3で撮像された被検査データは多値化回路4で多値データに変換されて面積測定回路12に入力される。面積測定回路11,12では、ウィンドウを単位として被検査多値データと設計多値データの面積を測定する。比較回路13では、面積測定回路11,12で測定した面積を同位置で比較する。比較の結果は欠陥情報記憶回路14に格納される。
請求項（抜粋）：
設計情報に基づいて設計パターンデータを出力する設計パターンデータ出力手段と、前記設計情報に基づいて被検査物上に形成された被検査パターンを撮像し、被検査パターンデータを出力する被検査パターンデータ出力手段と、前記設計パターンデータと前記被検査パターンデータとを比較して被検査物上のパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えた欠陥検査装置において、前記設計パターンデータからコンタクトホールパターンを抽出して、その面積および位置を測定する参照パターン測定手段と、前記被検査パターンデータからコンタクトホールパターンを抽出して、その面積および位置を測定する被検査パターン測定手段とを備え、前記欠陥検出手段は、前記参照パターン測定手段および前記被検査パターン測定手段でそれぞれ測定された前記コンタクトホールパターンの面積および位置を比較することにより、被検査物上のパターンの欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G06T 7/00
, H01L 21/027
G06F 15/62 405 A
, H01L 21/30 502 J
