特許

J-GLOBAL ID：200903061159395841

二重ペンドラム弁アセンブリ

発明者： メイハー,ジョセフ,アスハースト,ジュニア
出願人/特許権者： エムケーエス インスツルメント,インコーポレーテッド
代理人 (11件)： 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  産形 和央 ,  臼井 伸一 ,  藤野 育男 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎 ,  吉澤 弘司
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-506335
公開番号（公開出願番号）：特表2004-502105
出願日： 2001年06月21日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

内部空間、および流体が内部空間に流出入できるようにする第1および第2開口を有するハウジングと、内部空間の開口の縁部の周囲に設けられた弁座と、それぞれ第1および第2開口を開閉する第1および第2ペンドラム弁とを備えた二重ペンドラム弁アセンブリ。各ペンドラム弁は独立的に移動可能であって、ハウジングに取り付けられた弁体を有しており、弁体は、流体がそれぞれの開口を通ることができるようにする全開位置と、弁体が開口を密封して流体がそれを通ることができないようにする全閉位置との間を移動可能である。各ペンドラム弁はまた、少なくとも1つのピボットアームを介して弁体に固定的に連結されて少なくとも部分的にハウジング内に取り付けられたシャフトを備えて、弁体がシャフトの長手方向軸回りに、第1弁体が全開位置にある第1角位置と、弁体がそれぞれの開口にほぼ軸方向に整合した第2角位置との間を回転できると共に、ペンドラム弁が回転し続ける時、シャフトの長手方向軸にほぼ平行に移動して、第2角位置と全閉位置との間を移動できるようにしている。本開示はまた、半導体ウェハ製造装置の処理室内の真空圧を正確に制御する方法も提供している。

請求項（抜粋）：

a)内部空間、および流体が該内部空間に流出入できるようにする1対の開口を有するハウジングと、 b)前記内部空間内で、流体が第1開口を通ることができるようにする全開位置と、前記第1開口を密封して流体が通ることができないようにする全閉位置との間を移動可能な第1弁体と、 c)前記内部空間内で、流体が第2開口を通ることができるようにする全開位置と、前記第2開口を密封して流体が通ることができないようにする全閉位置との間を枢動移動可能な第2弁体とを備えた弁アセンブリ。

IPC (6件)：

F16K3/04 ,  F04B39/10 ,  F16K3/10 ,  F16K31/04 ,  F16K31/524 ,  F16K31/53

FI (6件)：

F16K3/04 Z ,  F04B39/10 Z ,  F16K3/10 ,  F16K31/04 A ,  F16K31/524 A ,  F16K31/53

Fターム (27件)：

3H003AA06 ,  3H003AB00 ,  3H003AC01 ,  3H003BC00 ,  3H003CC02 ,  3H003CC05 ,  3H053AA02 ,  3H053AA31 ,  3H053BD03 ,  3H053DA01 ,  3H062BB26 ,  3H062CC02 ,  3H062DD01 ,  3H062GG06 ,  3H062HH02 ,  3H062HH06 ,  3H063AA05 ,  3H063BB41 ,  3H063BB46 ,  3H063CC02 ,  3H063DA14 ,  3H063DB06 ,  3H063DB13 ,  3H063DB23 ,  3H063DB31 ,  3H063GG03 ,  3H063GG15

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-231071
  
• 弁装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-277663   出願人：トキコ株式会社