特許
J-GLOBAL ID：200903061165963436
電子線による描画方法および描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-084234
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297097
出願日： 1994年04月22日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】矩形状の入射電子線4を複数の開口パターン部1aをもつ図中の第2のアパーチャ上に結像し、開口パターン部1aより透過する透過電子線9で被加工面に前記開口パターンを描画する電子線描画方法および描画装置において、より簡単に近接効果を補正しより短い時間でパターンを正確に描画する。【構成】第2のアパーチャのパターン開口部1aにおける開口部1の端部から外側に向かって段差部7を設け、この段差部7の厚さdおよび幅wを任意に変えることで、パターン開口部1aを透過する透過電子線9の電子線形状8を制御し部分一括描画方法に適した近接効果の補正を行う。
請求項（抜粋）：
電子銃より加速放射され第1のアパーチャを透過する矩形状の電子線を複数の開口パターンをもつ第2のアパーチャ上に結像し、前記開口パターンより透過する電子線で被加工面に前記開口パターンを描画する電子線による描画方法において、前記開口パターンの開口端部に厚さを薄くしてなる少なくとも一つの段差部を有する構造に前記第2のアパーチャを形成し、前記第1のアパーチャを透過した前記矩形状の電子線を前記開口端部に段差部のある該第2のアパーチャを透過させ前記被加工面に前記開口パターンを描画することをを特徴とする電子線による描画方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
