特許
J-GLOBAL ID:200903061177753518

酸化亜鉛系透明導電膜及びその作製法並びにそれに使用するスパッタリングターゲット

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-101855
公開番号(公開出願番号):特開平6-293956
出願日: 1993年04月06日
公開日(公表日): 1994年10月21日
要約:
【要約】【目的】 低抵抗で且つ近赤外領域での透過率が良い酸化亜鉛系透明導電膜技術の開発。【構成】 0.1〜10at%アルミニウム及び0.1〜10at%硼素を同時にドープした酸化亜鉛から成るスパッタリングターゲットを使用してスパッタ法により基材上にZnO:Al,B透明導電膜を形成する。ZnO:Al,B透明導電膜はZnO:Al透明導電膜と同様低抵抗であり、しかも400〜1000nmの波長領域において80%水準の良好な透過率を有する。太陽電池窓材及び電極として有用である。ターゲットは亜鉛、アルミニウム及び硼素の酸化物等の化合物粉末を混合し、成形及び焼結により作製する。
請求項(抜粋):
0.1〜10at%アルミニウム及び0.1〜10at%硼素をドープした酸化亜鉛から成る透明導電膜。
IPC (2件):
C23C 14/08 ,  C23C 14/34
引用特許:
審査官引用 (10件)
  • 特開昭61-214306
  • 特開昭61-263008
  • 特開昭61-205619
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