特許
J-GLOBAL ID：200903061179003079

厨芥処理装置

発明者：
久保田 亨

久保田 亨 について

, 
石川 祥巳

石川 祥巳 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-199795
公開番号（公開出願番号）：特開平9-047744
出願日： 1995年08月04日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、コンパクトで、分解ガス中に含まれる臭気を効率よくメンテナンスフリーで脱臭することを目的とする。【構成】 排気系10に分解ガス中の臭気を吸着脱臭する脱臭手段13を配設し、加熱手段16による脱臭手段13の加熱再生動作を、厨芥投入から第1の所定時間以内又は該第1の所定時間より長い第2の所定時間以降に実行することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
投入された厨芥を分解媒体に分散させ、好気性菌により当該厨芥を分解処理する処理槽と、該処理槽内で発生した分解ガスを外部へ排気する排気系とを備えた厨芥処理装置における前記排気系に配設され前記分解ガス中の臭気を吸着脱臭する脱臭手段と、加熱により前記脱臭手段の吸着脱臭機能を再生させる加熱手段とを有する厨芥処理装置用脱臭装置であって、前記加熱手段による前記脱臭手段の加熱再生動作を、前記厨芥投入から第1の所定時間以内又は該第1の所定時間より長い第2の所定時間以降に実行させるように構成してなることを特徴とする厨芥処理装置。
IPC (4件)：
B09B 3/00 ZAB ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  C05F 9/02
FI (3件)：
B09B 3/00 ZAB D ,  C05F 9/02 D ,  B01D 53/34 116 A
引用特許：
審査官引用 (12件)
  • 特開平4-267923
  • 生ごみ処理機
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-292957   出願人：株式会社日立製作所, 日立多賀テクノロジー株式会社
  • 特開平4-114720
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM