特許
J-GLOBAL ID:200903061180951355

放電電極への給電方法、高周波プラズマ発生方法および半導体製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-085281
公開番号(公開出願番号):特開2001-274099
出願日: 2000年03月24日
公開日(公表日): 2001年10月05日
要約:
【要約】【課題】 高高周波(VHF)を利用するプラズマCVD等において、大きな基板等を対象として、大面積で均一なプラズマを生成させ、均一処理を行うことができる放電電極への給電方法、高周波プラズマ生成装置および半導体薄膜製造方法を提供する。【解決手段】 放電電極に給電された高周波電力に基づいて放電状態を発生させるための放電電極への給電方法であって、異なる発振周波数の高周波を互いに独立する高周波電源を用いて、それぞれの電源の周波数の差により定在波の発生を抑制する。
請求項(抜粋):
放電電極に給電された高周波電力に基づいて放電状態を発生させるための放電電極への給電方法であって、異なる発振周波数の高周波を互いに独立する高周波電源を用いて供給し、それぞれの電源の周波数の差により定在波の発生を抑制することを特徴とする放電電極への給電方法。
IPC (4件):
H01L 21/205 ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46
FI (4件):
H01L 21/205 ,  C23C 16/505 ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 B
Fターム (32件):
4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030CA12 ,  4K030DA03 ,  4K030DA04 ,  4K030FA01 ,  4K030FA03 ,  4K030JA03 ,  4K030JA11 ,  4K030JA18 ,  4K030KA15 ,  4K030KA17 ,  4K030KA18 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41 ,  5F004AA01 ,  5F004BA06 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004CA03 ,  5F045AA08 ,  5F045AB03 ,  5F045AB04 ,  5F045AB33 ,  5F045BB02 ,  5F045BB15 ,  5F045CA13 ,  5F045EH04 ,  5F045EH13 ,  5F045EH19 ,  5F045GB15

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