特許

J-GLOBAL ID：200903061191786968

レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法

発明者： 曽根 篤
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-159267
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352693
出願日： 1998年06月08日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザーに対して高い透明性を有し、かつ耐ドライエッチング耐性に優れ、安定して優れたパターン形状を与えるレジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸発生剤と、この酸発生剤によって脱離する基として脂環式炭化水素基およびラクトン構造を有する基を有する構造単位ならびに少なくとも1個の酸素原子、窒素原子またはイオウ原子を含む酸に安定な官能基を有する構造単位を含む3元共重合体とを含有するレジスト組成物である。

請求項（抜粋）：

下式(1)で示される3元共重合体と酸発生剤を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】(式中、M1、M2およびM3は三価の有機基であり;B1、B2およびB3は単結合または炭素数1-10の二価の有機基であり;A1およびA2は酸と反応して開裂する結合を有する二価の有機基であり;Zは記載のCと共に脂環式炭化水素基を完成するのに必要な複数個の原子を表し;R1 は炭素数1-6の置換されていてもよいアルキル基であり;R2 は炭素数1-4の置換されていてもよいアルキル基であり;Qは少なくとも1個の酸素原子、窒素原子またはイオウ原子を含む酸に安定な官能基であり;2≦(m+n)≦4であり;p、qおよびrは1〜10000である)

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R