特許

J-GLOBAL ID：200903061196871335

新規含フッ素フタロシアニン化合物、その製造方法、それを含む近赤外線吸収材料およびそれらを含む光記録媒体

発明者： 海江田 修 ,  吉年 孝司 ,  小野崎 美穂
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-017669
公開番号（公開出願番号）：特開平6-228533
出願日： 1993年02月04日
公開日（公表日）： 1994年08月16日
要約：

【要約】【構成】 下記一般式(I):【化1】〔X1〜X4及びFはベンゼン核の3又は6位、Y1〜Y4, W1〜W4は4又は5位に位置し;X1〜X4, Y1〜Y4は各々独立に(1)-(7) 群、W1〜W4は各々独立に(1)-(3) 群の置換基から選ばれ;X1〜X4, Y1〜Y4の中で少なくとも2個は(4),(5),(6),(7) 群から選ばれ;a,b,c,d は各々独立に0-2 の整数、a,b,c,d の総和は1-4 であり;Mは無金属、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を表す〕【化2】(4) -O-Cm H n ,(5)-S-Cm H n ,(6)-O-(CH2CH2O)g B ,(7) -O-(CH2CH2CH2O)h G(A,B,G は各々独立にC数1-8 のアルキル(Ar)基、Z はH,C数1-4 のAr基,C数1-4 のアルコキシル基又はF、D,E はC数1-4 のAr基を表し、g,h は各々独立に 1-5の整数、p,q,r は 0-2の整数、mは1-12の整数、nはCm Hn なるAr基を飽和するのに必要なH数)で示される含フッ素フタロシアニン化合物。【効果】 650-900nm の吸収波長域で所望の吸収波長制御が可能。溶媒への溶解性及び耐光性に優れる。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I):【化1】〔式中、X1,X2,X3,X4 およびフッ素原子はベンゼン核の3位あるいは6位に位置し、またY1,Y2,Y3,Y4,W1,W2,W3 およびW4 は4位あるいは5位に位置し;X1,X2,X3,X4,Y1,Y2,Y3 およびY4 は各々独立に下記(1)〜(7)群の置換基そしてW1,W2,W3 およびW4 は各々独立に下記(1)〜(3)群の置換基【化2】【化3】【化4】(4)群 -O-Cm Hn ,(5)群 -S-Cm Hn ,(6)群 -O-(CH2 CH2 O) g B または(7)群 -O-(CH2 CH2 CH2 O) h G(式中、A,BおよびGは各々独立に炭素原子数1〜8個のアルキル基を表し、Zは水素原子,炭素原子数1〜4個のアルキル基,炭素原子数1〜4個のアルコキシル基またはフッ素原子を表し、DおよびEは炭素原子数1〜4個のアルキル基を表し、g及びhは各々独立に1〜5の整数であり、p,qおよびrは0〜2の整数であり、mは1〜12の整数であり、nはCm Hn なる直鎖あるいは分岐したアルキル基又はシクロアルキル基を飽和するのに必要な水素原子数である)から選ばれ;X1,X2,X3,X4,Y1,Y2,Y3 およびY4 の中で少なくとも2個は(4), (5), (6)または(7)群の置換基から選ばれ;a,b,c,およびdは各々独立に0〜2の整数であり、かつa,b,cおよびdの総和は1〜4であり;Mは無金属、金属、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表す。〕で示されることを特徴とする含フッ素フタロシアニン化合物。

IPC (7件)：

C09K 3/00 105 ,  C09B 47/067 ,  C09B 47/18 ,  C09B 47/20 ,  C09B 47/30 ,  G11B 7/24 516 ,  G03G 5/06 371