特許

J-GLOBAL ID：200903061201319840

デオキシリボフラノシルハライド誘導体の製造方法

発明者： 石戸 良治 ,  京盛 浩之 ,  永瀬 友康 ,  高月 健一 ,  中島 知恵子 ,  大志田 宏之
出願人/特許権者： 小林香料株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-016430
公開番号（公開出願番号）：特開平7-224081
出願日： 1994年02月10日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：

【要約】【構成】 下記一般式〔I〕【化6】〔式中、R1 はアルキル基を示し、R2 およびR3 は同一又は相異なる保護基を示す。〕で表わされる2-デオキシリボフラノース誘導体を、アルコール又は水の存在下で、ハロゲン化剤と反応させて、下記一般式〔II〕【化7】〔式中、R2 およびR3 は同一又は相異なる保護基を示し、Xはハロゲン基を示す。〕で表わされる2-デオキシリボフラノシルハライド誘導体を得る。【効果】 2-デオキシリボフラノシルハライド誘導体を安全且つ効率的に得ることができる。

請求項（抜粋）：

下記一般式〔I〕【化1】〔式中、R1 はアルキル基を示し、R2 およびR3 は同一又は相異なる保護基を示す。〕で表わされる2-デオキシリボフラノース誘導体を、アルコール又は水の存在下で、ハロゲン化剤と反応させることを特徴とする、下記一般式〔II〕【化2】〔式中、R2 およびR3 は同一又は相異なる保護基を示し、Xはハロゲン基を示す。〕で表わされる2-デオキシリボフラノシルハライド誘導体の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-012790
  
• 特開昭62-012790