特許
J-GLOBAL ID：200903061202074639

電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器

発明者：
高原 研一

高原 研一 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-202639
公開番号（公開出願番号）：特開2004-226954
出願日： 2003年07月28日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：
【課題】液晶装置等の電気光学装置において、画素電極の縁付近やコンタクトホール付近に、配向膜の材料カスが発生したり、溜まったりするのを防ぐ。これにより、輝度ムラ或いは表示ムラを低減する。【解決手段】電気光学装置は、基板(10)上に、TFT(30)を備え、該TFT上に、コンタクトホール(89)を介して中継電極(402)に接続された画素電極(9a)を備える。そして、画素電極上には、その縁部分における端面を覆う保護用絶縁膜(501)が、画素電極の間隙から画素電極の縁部分にかけて設けられている。配向膜(16)は、この保護用絶縁膜を含む一面に塗布されると共にラビング処理が施されている。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
一対の基板間に電気光学物質が挟持されてなり、 該一対の基板のうち一方の基板上に、 平面的に見て相互に間隙を隔てて配列された複数の画素電極と、 該画素電極の下地となる下地層と、 該下地層の下方に形成されると共に前記画素電極に接続された配線及び電子素子の少なくとも一方と、 前記間隙において前記下地層上に少なくとも部分的に形成されると共に前記画素電極の縁部分上に重ねて形成されることで前記画素電極の縁部分における端面を覆う保護用絶縁膜と、 該保護用絶縁膜及び前記画素電極の中央部分を含む一面に塗布されると共に所定ラビング方向のラビング処理が施された配向膜と を備えたことを特徴とする電気光学装置。
IPC (7件)：
G02F1/1368 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/1343 ,  G09F9/00 ,  G09F9/30
FI (7件)：
G02F1/1368 ,  G02F1/1333 505 ,  G02F1/1335 500 ,  G02F1/1337 500 ,  G02F1/1343 ,  G09F9/00 338 ,  G09F9/30 338
Fターム (45件)：
2H090HA03 ,  2H090HA06 ,  2H090HD03 ,  2H090HD14 ,  2H090HD17 ,  2H090LA01 ,  2H090LA04 ,  2H090MA06 ,  2H090MB01 ,  2H091FA35Y ,  2H091FB02 ,  2H091FC13 ,  2H091GA06 ,  2H091GA07 ,  2H091GA13 ,  2H091LA03 ,  2H092GA29 ,  2H092JA24 ,  2H092JB51 ,  2H092JB58 ,  2H092NA04 ,  2H092NA16 ,  2H092NA17 ,  2H092PA02 ,  2H092PA09 ,  5C094AA03 ,  5C094AA05 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094DA15 ,  5C094EA04 ,  5C094GB10 ,  5C094JA01 ,  5C094JA09 ,  5G435AA02 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435EE12 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10 ,  5G435LL15
引用特許：
審査官引用 (6件)
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