特許
J-GLOBAL ID：200903061251511700
処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-164496
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012695
出願日： 1996年06月25日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：
【要約】【課題】基板処理における基板導入サイクルを十分短くすることができる処理装置を提供すること。【解決手段】複数の真空処理室2,4,6,8 がゲート22を介して真空搬送室10に接続されている。真空搬送室10にはゲート22を介して放射状に複数のロードロック室12,14,16,18 が設けられており、これらがロードロック室ユニット20を構成している。このユニット20の外側には基板を保持するカセット40が設けられている。さらに真空搬送室10内には各ロードロック室と各真空処理室との間で基板を搬送する基板搬送機構60が設けられており、また、カセット40と各ロードロック室との間で基板を搬送する基板搬送機構50が設けられている。複数の真空処理室は、複数のロードロック室の上方に設けられており、基板搬送機構50は、ロードロックユニット20を回転した状態で順次各ロードロック室に対する基板の搬出入を行う。
請求項（抜粋）：
減圧雰囲気で基板に対して所定の処理を施す複数の真空処理室と、これら真空処理室にゲートを介して接続され、真空状態に維持される真空搬送室と、前記真空搬送室外に設けられ、真空搬送室内へ搬入される基板または真空搬送室外へ搬出された基板を保持する基板保持部と、前記真空搬送室にゲートを介して接続され、未処理基板を前記基板保持部から受け取りまたは処理済み基板を前記真空搬送室から受け取る放射状に配置された複数のロードロック室を有し、回転可能に設けられたロードロック室ユニットと、前記真空搬送室内に設けられ、前記各ロードロック室と前記各真空処理室との間で基板を搬送する第1の基板搬送手段と、前記基板保持部と前記各ロードロック室との間で基板を搬送する第2の基板搬送手段と、を具備し、前記第2の基板搬送手段は、前記ロードロックユニットを回転した状態で順次各ロードロック室への基板の搬入または各ロードロック室からの基板の搬出を行うことを特徴とする処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 A
, B25J 9/06 A
