X線投影露光装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：薄田利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-141728
公開番号（公開出願番号）：特開平8-005796
出願日： 1994年06月23日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】【目的】微細パターンを転写する半導体製造技術(リソグラフィ)の量産効率を向上させるX線露光装置を実現する。【構成】回転楕円面のコンデンサミラー1を複数の領域4、5に分割してそれぞれの回転楕円面領域4、5で反射されたX線12、13がマスク2の照明位置では重複して、光が絞られる形状のとなるようにコンデンサミラー1、マスク2を配置する。【効果】X線投影露光装置に用いる結像光学系を2枚組ミラーとすることと照明光の有効利用が可能となるので、上記露光装置のスループットが向上する効果がある。また、結像光学系の像質を改善する照明のインコヒーレント化も可能とする副次的な効果がある。

請求項（抜粋）：

光源から発散するX線をコンデンサミラーで集光してマスクを照明し、上記マスクからの反射光又は透過光を結像光学手段を介して基板上に投影露光して上記マスク上のパターンを転写する露光装置において、上記コンデンサミラーを回転楕円面とし、かつ上記回転楕円面の反射面が複数の領域に分割され、各領域で反射されたX線が上記マスクの同一領域を照射するように構成されたことを特徴とするX線投影露光装置。

IPC (3件)：

G21K 1/06 , G21K 5/02 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-225215
特開平2-174111
特開昭63-062231

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