特許
J-GLOBAL ID：200903061293889206
基板処理方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-075812
公開番号（公開出願番号）：特開2000-269148
出願日： 1999年03月19日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：
【要約】【課題】 歩留まりを向上した基板処理装置を提供する。【解決手段】 不純物を注入した後に、600°Cで1時間、窒素雰囲気中にアレイ基板Bを保持して、不純物を活性化させる。窒素を導入した雰囲気中で金属プレート上でアレイ基板Bを一旦冷却した後に真空引きする。圧力が13.3Pa以下になったところで真空引きを停止し、アレイ基板Bをリフトし、再度、チャンバ34を大気開放し、アレイ基板Bを取り出す。真空にすることにより、窒素がアレイ基板Bに回り込んで静電気が発生することがなくなるので、静電気により配線が短絡し不良となることを防止する。
請求項（抜粋）：
基板の一面を物体に接触させて冷却し、基板の周囲の雰囲気を真空にし、この真空状態で基板を前記物体から取り外すことを特徴とする基板処理方法。
IPC (5件)：
H01L 21/205
, G02F 1/1333 500
, H01L 29/786
, H01L 21/336
, C23C 16/56
H01L 21/205
, G02F 1/1333 500
, C23C 16/56
, H01L 29/78 627 F
